金融界2025年8月1日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“控制栅和浮栅及其制作方法”的专利，公开号CN120417458A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明提供了一种控制栅和浮栅及其制作方法，属于半导体领域。该控制栅和浮栅的制作方法包括提供一半导体基底；提供第一掩模版，所述第一掩模版上设置有存储区栅极图形和虚拟图形，所述第二光刻胶图形用于增加外围逻辑区图形密度；以所述第一光刻胶图形为掩膜，依次刻蚀硬掩模层、控制栅层、介质层和浮栅层，分别形成存储区的第一控制栅和第一浮栅。本发明通过在第一掩模版增加虚拟图形，从而能够对Logic区存在器件图形的地方增加图形，提高Logic区图形的密度，改变整张掩模版的透光率，能够降低Logic区的透光率，使得Logic区与Cell区的透光率保持尽量做到相同。从而能够在Cell区刻蚀第二TEOS层形成芯轴时，避免对Logic区产生损伤。
天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2081次，专利信息2356条，此外企业还拥有行政许可344个。
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
记者实探西安8岁女孩的家：小屋窗户没玻璃，邻居经常投喂称她“很聪明”，听到上学后激动大喊
中国首例「5胞胎」现状曝光：个个年满20岁，父亲过劳去世，如今现状却让人唏嘘
蜂巢能源董事长杨红新：首发安全分级体系，第四阶段安全要求全面超越“新国标”
Bitmo Lab推出GameBaby手机壳，让iPhone 17 Pro Max变身Game Boy
明年春季见！iPhone17e逆势迭代，Air 2却因卖不动被迫延期！
《明日方舟：终末地》制作人访谈：面面俱到/
主站 商城 论坛 自运营 登录 注册 《明日方舟：终末地》制作人访谈：面面俱到 旌影 2025-11-1...
